8inch 200mm Silicon Carbide SiC Wafers 4H-N karazana Production grade 500um hatevin'ny

Famaritana fohy:

Shanghai Xinkehui Tech.Co., Ltd dia manolotra ny fifantenana sy ny vidiny tsara indrindra ho an'ny wafers karbida silisiôma avo lenta sy substrate hatramin'ny savaivony 8inch misy karazana N- sy semi-insulating.Ny orinasa fitaovana semiconductor kely sy lehibe ary laboratoara fikarohana dia mampiasa sy miantehitra amin'ny wafers karbida silicone.

Alefaso mailaka aminay

Product Detail

Tags vokatra

200mm 8inch SiC substrate famaritana

Habe: 8 santimetatra;

Savaivony: 200mm±0.2;

Hatevina: 500um±25;

Fiorenan'ny ety ivelany: 4 mankany [11-20]±0,5°;

Fiorenan'ny notch: [1-100]±1°；

Halavan'ny notch: 1±0.25mm;

Micropipe: <1cm2;

Plate Hex: Tsy misy azo atao;

fanoherana: 0.015~0.028Ω;

EPD:<8000cm2;

TED:<6000cm2

BPD: <2000cm2

TSD: <1000cm2

SF: faritra <1%

TTV≤15um；

Warp≤40um；

tsipìka≤25um；

Faritra poly: ≤5%;

Scratch: <5 sy ny halavany mitambatra < 1 savaivony;

Chips/Indents: Tsy misy fahazoan-dalana D>0.5mm sakany sy ny halaliny;

Trika: Tsy misy;

Stain: Tsy misy

sisiny ovy: Chamfer;

Famaranana eny ambonin'ny: poloney sisiny roa, Si Face CMP;

Fonosana: Multi-wafer Cassette na Single Wafer Container;

Ny fahasarotana amin'izao fotoana izao amin'ny fanomanana ny 200mm 4H-SiC kristaly mainl

1) Ny fanomanana ny kristaly voa 200mm 4H-SiC avo lenta;

2) Large habe mari-pana saha tsy fanamiana sy ny nucleation dingana fanaraha-maso;

3) Ny fahombiazan'ny fitaterana sy ny fivoaran'ny singa entona amin'ny rafitra fitomboana kristaly lehibe;

4) Ny fiparitahan'ny kristaly sy ny fihanaky ny kilema vokatry ny fitomboan'ny adin-tsaina mafana.

Mba handresena ireo fanamby ireo sy hahazoana vahaolana avo lenta 200mm SiC dia atolotra:

Amin'ny lafiny fanomanana kristaly voa 200mm, saha fikorianan'ny mari-pana mifanaraka amin'izany, ary ny fivorian'ny fanitarana dia nodinihina ary natao handraisana ny kalitao kristaly sy ny habeny;Manomboka amin'ny kristaly SiC se:d 150mm, manaova fanodinana kristaly voa mba hanitarana tsikelikely ny kristaly SiC mandra-pahatongany amin'ny 200mm;Amin'ny alalan'ny fitomboana sy ny processiig kristaly maro, manatsara tsikelikely ny kalitaon'ny kristaly ao amin'ny faritra fanitarana kristaly, ary manatsara ny kalitaon'ny kristaly voa 200mm.

Raha resaka kristaly conductive 200mm sy fanomanana substrate, ny fikarohana dia nanatsara ny mari-pana sy ny famolavolana saha mikoriana ho an'ny fitomboan'ny kristaly lehibe, mitarika ny fitomboan'ny kristaly SiC conductive 200mm, ary mifehy ny fitovian'ny doping.Taorian'ny fanodinana henjana sy ny famolavolana ny kristaly, dia nisy ingot 4H-SiC conductive 8-inch elektrika miaraka amin'ny savaivony mahazatra.Taorian'ny fanapahana, fitotoana, fikosoham-bary, fanodinana mba hahazoana siC 200mm wafers miaraka amin'ny hatevin'ny 525um na mihoatra